Determination of effective parameters on ion energy of a plasma ion source using $O_2$

Bu çalışmada, soğuk-katot plazma kaynağı tarafından üretilen iyon enerjisinin etkin parametreleri ele alınmıştır. Kaynağın iyon enerjisi O2 kullanılarak incelenmektedir. Ölçümler iyon enerjisi dağılım fonksiyonlarını elde etmek için, bir iyon enerjisi analiz cihazı ile gerçekleştirilmiştir. Oksijenin ortalama iyon enerjisi; basıncın, sürücü geriliminin ve sürücü akımının fonksiyonu olarak hesaplanmıştır. İyon akım yoğunluğu üzerindeki bu parametrelerin etkileri bir devre kullanılarak yapılmıştır. Farklı pompalama hızları için akımla gerilim arasındaki değişmeler analiz edilmiştir.

$O_2$ kullanan plazma iyon kaynağının iyon enerjisi üzerinde etkin parametrelerin belirlenmesi

This study discusses the characterization of the ion energy produced by a broad-beam cold cathode plasma source. Ion energy of the source has been investigated using O2 as a working gas. Measurements were made by an ion energy analyzer to obtain ion energy distribution functions (IEDFs). Mean ion energies of oxygen as a function of pressure, drive voltage, and drive current were calculated. Effects of these parameters on Ion Current Density (ICD) are discussed using a circuitry. Variations of the drive voltage with the drive current for different pumping speeds were analyzed.

PDF

___

Dligatch, S., Netterfield, R.P. and Drage, D.J., 2004. Recent developments in ion-assisted deposition techniques for multiplayer optical thin films.
Martin, P.J., 1986. Ion-assisted thin film deposition and applications. Vacuum, 36: 585.
McNally, J.T., 1986. Ion assisted deposition of optical coatings, Report No. AFIT/CI/NR 86-77D, Dissertation, University of New Mexico.
McNeil, J.R., Barron, A.C., Wilson, S.R., and Herrmann, W.C. Jr., 1984. Ion-assisted deposition of optical films: Low energy vs. high energy bombardment. Applied Optics, 4(23): 552.
Morton, D.E., 2000. The effects of pumping speed on the operation of a cold cathode ion source, 43rd Annual Technical Conference Proceedings.
Morton, D.E. and Danielsen, R., 1997. Ion assisted Deposition (IAD) of TiO2, Al2O3 and MgF2 Thin Films using a high current/low energy ion source, 40th Annual Technical Conference Proceedings, pp. 203-209.
Morton, D.E. and Dinca, A., 1999. Ion-Assisted Deposition of E-gun Evaporated ITO films at low substrate temperatures, 42nd Annual Technical Conference of the Society of Vacuum Coaters, pp. 1-6.
Morton, D.E. and Fridman, V., 1998. Measurement and correlation of ion beam current density to moisture stability of oxide film stacks fabricated by cold cathode ion assisted deposition, 41st Annual Technical Conference Proceedings, pp. 297-302.
Vishnyakov, V.M., Bachurin, V.I., Minnebaev, K.F., Valizadeh, R., Teer, D.G., Colligon, J.S., Vishnyakov, V.V., and Yurasova, V.E., 2006. Ion assisted deposition of titanium chromium nitride. Thin Solid Films, 497: 189-195.
Zabeida, O., Klemberg-Sapieha, J.E., Martinu, L., and Morton, D., 1998. Ion bombardment characteristics during the growth of optical films using a cold cathode ion sources/in Proc. 1998, Fall Meeting, Materials Research Society, Boston.

ISSN: 1303-6831
Yayın Aralığı: Yılda 2 Sayı
Başlangıç: 2002
Yayıncı: Milli Savunma Üniversitesi Alparslan Savunma Bilimleri ve Millî Güvenlik Enstitüsü