Plazma ortamında iyon aşılama yöntemi (PIII-$PI^3$ ), genel prensipleri ve uygulama alanları

Plazma Ortamında İyon Aşılama $(Pl^3)$ geleneksel iyon aşılama ile plazma nitrürleme tekniklerinin avantajlarını bir araya toplayan yeni bir teknolojidir. Yüksek enerjili iyon bombardımanın termal difüzyonla desteklenmesi, daha derin modifiye edilmiş tabaka oluşumu sağlamaktadır. Bu makalede, $Pl^3$ yönteminin genel prensipleri, geleneksel iyon aşılama ile plazma nitrürlemeden ayrıldığı noktalar irdelenmiş ve yöntemin uygulama alanları hakkında bilgi verilmiştir.

Plasma immersion ion implantation $(Pl^3)$ is a new hybrid technology using elements of conventional ion implantation as well as plasma nitriding. In addition to the high energetic ion bombardment, thermal diffusion enables to obtain thicker modified layers. This paper gives an overview about the general principles of $Pl^3$, the differences than conventional ion implantation and plasma nitriding and its application areas.

___

  • 1. Dr. Klaus Steffens/Dr.Hans Wilhelm from MTU Aero Engines, Next Engine Generations Materials Surface Technology, Manufacturing Technology,,What Comes After 2000? Bildiri ICAS 2201
  • 2. Pat l.Mangonon, Materials Selection Engineering Design, Florıda Instute of Tehnology 1999
  • 3. Paul Degormo J.T. Black Ronald Kolster, Materials and Processes in Manufacturing, Prentice Hall
  • 4. Jack Kernebrock, Aırcraft Engines and Gas turbines, MIT Press Cambridge
  • 5. Jack D. Mattingly, Elements of Gas Turbine Propulsion, Mcgrawhill Co 1996
  • 6. www.nasa.gov
  • 7. www.EJ200.com
  • 8. R. Dunker European Commission Aeronautics Research Series, 1993, John Wiley & Sons USA Pg.41
  • 9. Jack Mattingly,William Heise, David Pratt. AIAA Education Series USA ,2002 Pg.98