Bu çalışmada, iyon destekli kaplama tekniği ile soğuk-katot plazma kaynağı tarafından oluşturulan optik ince filmin özelliklerinin analizi yapılmıştır. Bu işlem optik ince filmin, optik ve fiziksel karakteristiklerini artırmak için gerçekleştirilmiştir. Sistemin sürücü voltajı, basıncı ve pompalama hızı ele alınmış, silikon tabakası ve mikroskop camı üzerinde kaplanan, TiO2 ve Ta2O5’in bazı karakteristikleri incelenmiştir. TiO2 ve Ta2O5için kırılma indisleri, kalınlık ve gerilimler hesaplanmış ve filmlerin nem kararlılığı incelenmiştir. Farklı pompalama hızı ve gaz akış hızlarında farklı filmlerin kırılma indislerinin değişimleri üzerinde çalışılmıştır