Iğdır Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi
119-129
Dielektrik özellikler, TiO2, MIS yapı, atomik katman kaplama (ALD), atomik katman kaplama (ALD)
Dielectric properties, TiO2, MIS structure, atomic layer deposition (ALD), atomic layer deposition (ALD)
TiO2 Ara Katmanlı Si-Tabanlı Heteroeklemin Dielektrik Karakterizasyonu
Iğdır Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi
TiO2 ve AgS Katkılı TiO2 Nanotüp Fotokatalizörlerinin Sentezlenmesi ve Karakterizasyonu
Çukurova Üniversitesi Mühendislik Fakültesi dergisi
Taner TEKİN, Derya TEKİN, Hakan KIZILTAŞ
ATOMİK KATMAN BİRİKTİRME (ALD) CİHAZLARI VE ÇEŞİTLERİNDEKİ GELİŞMELER
Mühendislik Bilimleri ve Tasarım Dergisi
Deniz TUGRUL, Hüseyin ÇAKMAK, Ekmel ÖZBAY, Bilge İMER
International Journal of Automotive Engineering and Technologies
Faruk UNKER, F. Ünker, Erdar KAPLAN, Olkan CUVALCİ, O. Çuvalcı
Cam Elyaf Dokuma İle Güçlendirilmiş Tabakalı Kaplama Kerestenin Bazı Teknolojik Özellikleri
Kahramanmaraş Sütçü İmam Üniversitesi Mühendislik Bilimleri Dergisi
Menâúıb-ı èAli Es-Semarúandì’de -mIş eki
FSM İlmi Araştırmalar İnsan ve Toplum Bilimleri Dergisi
Asit ve Baz Kataliz Sol-Jel Daldırmalı Kaplama Tekniği ile Üretilen SiO2 Kaplamaların İncelenmesi
Dokuz Eylül Üniversitesi Mühendislik Fakültesi Fen ve Mühendislik Dergisi