Manyetik alanda sıçratma, ince filmlerin fiziksel buhar biriktirme yöntemleriyle kaplanmasında çok kullanılan yöntemlerden biridir. İlk kullanılmaya başlandığı yıllarda, kaplama özellikleri istenildiği gibi olmasa da, manyetik alanda sıçratma yönteminde yapılan değişikliklerle günümüzde istenilen özellikte metal, alaşım, seramik, yalıtkan malzemeler ve çok katlı kaplamalar yapmak mümkün olmaktadır. Bu çalışmada, daha çok sıçratmayı esas alan fiziksel buhar biriktirme yöntemleri üzerinde durulmuş ve manyetik alanda sıçratmanın temel bilgileri verilerek, bu yöntemdeki gelişmeler-dengesiz manyetik alanda sıçratma, kapalı alan dengesiz manyetik alanda sıçratma, darbeli manyetik alanda sıçratma-üzerinde durulmuştur.

Magnetron sputtering is the most widely used process for the physical vapour deposition of thin films. In the years of initial application of this technique, despite the attained of coating were not desirable, with the development of magnetron sputtering, it is now possible, to deposit high quality metal, alloy, ceramic, highly insulating materials and multi-layer coatings. In this paper, physical vapor deposition techniques based particularly on sputtering were investigated and the basic knowledge of magnetron sputtering was presented. The developments on this technique including unbalanced magnetron sputtering, closed field unbalanced magnetron sputtering, pulsed magnetron sputtering were also discussed.