Bor Nitrür Kaplamanın, Kaynak Çapaklarının Metal Aparat Yüzeylerine Yapışma Davranışlarına Etkisi

Sürtünme ve aşınma gibi tribolojik etkiler veya korozyon nedeniyle endüstride kullanılan malzemelerin ticari ömürleri sıklıkla beklenenden daha önce sona ermektedir. Genellikle yüzeyde meydana gelen bu etkilere maruz kalan malzemelerin ömürlerini uzatmak için yine yüzey seviyesinde değişikliklere ihtiyaç duyulmaktadır. Fonksiyonel kaplamalar yüzey iyileştirme yöntemlerinden en önemlisidir. Bu kaplamalar içinde bor nitrür üstün mekanik ve kimyasal özellikleri nedeni ile özellikle çelik yüzeyler için son zamanlarda en fazla dikkat çeken kaplamalardan birisi haline gelmiştir. Bu çalışmada, otomotiv sanayinde nokta kaynak uygulamaları sırasında kaynak aparatlarına kaynak çapaklarının yapışmasını engellemeye yönelik olarak bor nitrür kaplamanın performansı araştırılmıştır. Bu aparatların yüzeylerine yapışan kaynak çapaklarının, imalat süreci durdurularak sık sık temizlenmesi ihtiyacı nedeniyle oluşan önemli bir zaman kaybı vardır. Bu sürecin olabildiğince kısaltılması imalat maliyetleri açısından verimlilik artıracak bir yaklaşım olacaktır.

___

  • 1. Uzun, H.A., “Borlama İle Yüzeyleri Sertleştirilen Çeliklerin Aşınma ve Korozyona Karşı Dayanımları”, Yüksek Lisans Tezi, Süleyman Demirel Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü, 2002
  • 2. Addemir, O., “Bor Ürünlerinin Teknolojileri ve Türkiye'nin Durumu”, 1. Uluslar Arası Bor Sempozyumu, Kütahya, 3-4 Ekim 2002
  • 3. Kaftanoğlu, B., Dökmetaş, N., “Kübik Bor Nitrür (c-BN) Kaplamalar”, 3. Ulusal Talaşlı İmalat Sempozyumu, 04-05 Ekim 2012, Ankara
  • 4. Willa G., Perkins P.-G., “Is There a New Form of Boron Nitride With Extreme Hardness?”, Diamond and Related Materials 10 (2001) 2010_2017
  • 5. Audronis M., Valiulis A.-V., “Silickas P., Recent Developments in the Deposition of c- BN Coatings”, ISSN 1392–1320 Materials Science (MEDŽIAGOTYRA), Vol. 10, No. 2. (2004)
  • 6. http://sciencelearn.org.nz/Contexts/Ceramics/ Sci-Media/Images/Boron-nitride
  • 7. http://www.jec-inc.com/
  • 8. Deng J., Wang B., Tan L., Yan H., Chen G., “The Growth of Cubic Boron Nitride Films by RF Reactive Sputter”, Thin Solid Films 368 (2000) 312-31
  • 9. Zhu P.W., Zhao Y.N., Wang B., He Z., Li D.M., Zou G.T., “Prepared Low Stress Cubic Boron Nitride Film by Physical Vapor Deposition”, Journal of Solid State Chemistry 2002 167, 420–424
  • 10. Ye J., Rothaar U., Oechsner H., “Conditions For The Formation of Cubic Boron Nitride Films by R.F. Magnetron Sputtering”, Surface and Coatings Technology 105 (1998) 159–164
  • 11. Hu C., Kotake S., Suzuki Y., Senoo M., “Boron Nitride Thin Films Synthesized by Reactive Sputtering”, Vacuum 59 (2000) 748- 754
  • 12. Zhao Y.-N., Wang B., Yu S., Tao Y.C., He Z., Li D.M., Zou G.T., “Preparation of c-BN Films by RF Sputtering And The Relation of BN Phase Formation to The Substrate Bias And Temperature”, Thin Solid Films 320 (1998) 220-222
  • 13. Jiang L., Fitzgerald A.-G., Rose M.J., Lousa A., Gimeno S., “Formation of Cubic Boron Nitride by RF Magnetron Sputtering”, Surface Interface Analysis 2002 , 34, 732-734 228
  • 14. http://www.oxfordinstruments. com/products/etching-depositionand- growth/plasma-etch-deposition/ physicalvapour- deposition-(pvd)